大家好,今天小编关注到一个比较有意思的话题,就是关于photoresist的问题,于是小编就整理了6个相关介绍photoresist的解答,让我们一起看看吧。
光刻胶(photoresist,也作光致抗蚀剂,光阻),是一种由聚合物树脂(resin),光敏化合物(photoactive compound)和溶剂等混合而成的胶状液体,从成份上来讲,都是碳基有机化合物。
树脂,作为粘合剂的聚合物混合物,决定了光刻胶的机械和化学性能;
光敏化合物,决定了光刻胶的光敏感度:当受到特定波长能量束作用后,光敏化合物会分解或者聚合,激发化学反应,使受辐照区域在某些特定溶液中的溶解特性发生改变,或溶解性被增强或变得更难溶,进而形成光刻胶图案;
溶剂,则可以改变光刻胶的粘度,从而在合理的转速范围内得到所要的厚度
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。
在光刻胶工艺过程中,涂层曝光、显影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下来,该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来,而未曝光被溶解,该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同,又分为紫外光刻胶(包括紫外正、负性光刻胶)、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。
光刻胶生产技术较为复杂,品种规格较多,在电子工业集成电路的制造中,对所使用光刻胶有严格的要求。
中文名:光刻胶
外文名:photoresist
适用领域:
集成电路、平板显示器和半导体分离器件的制造等
所属学科:
化学>高分子化学>高分子加工技术和应用、信息科学技术、电子学>电子元器件工艺与分析技术
别名:
光致抗蚀剂
是危化品乙类产品。光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料,是危化品乙类产品之一。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。
日本,中国,美国。日本的光刻胶质量是世界上最好的,产量在世界上也是最多的。
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
光刻胶(英语:photoresist),亦称为光阻或光阻剂,是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,是光刻工艺中的关键材料,主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。
到此,以上就是小编对于photoresist的问题就介绍到这了,希望介绍关于photoresist的6点解答对大家有用。